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J-GLOBAL ID：201602218362833003   整理番号：16A0036707

集中ナノセリアスラリー中の粒子の分散挙動【Powered by NICT】

Dispersion Behavior of Particles in Concentrated Nano-ceria Slurries

著者 (5件)： Wei Qilong (China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Li Xiaoyuan (China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Gao Wei (China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  Wang Chao (China Acad. of Engineering Physics, Mianyang) ,  He Jianguo (China Acad. of Engineering Physics, Mianyang)
資料名： Xiyou Jinshu Cailiao yu Gongcheng  (Xiyou Jinshu Cailiao yu Gongcheng)
巻： 44  号： 9  ページ： 2265-2269  発行年： 2015年 
JST資料番号： W0563A  ISSN： 1002-185X  CODEN： XJCGEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 濃厚スラリー中のナノセリア粒子の分散挙動の正確な決定は,研磨中のナノ粒子のスケール効果を発揮する技術基盤を提供するであろう。ナノセリア粒子とそれらの対応する元の溶液の濃厚スラリーの二種類を調製し,粒子の分散挙動はスラリーの相対粘度(RV),粒度分布(PSD)およびゼータ電位の観点から研究した。最適分散パラメータは,スラリーのRVの発展規則に従って決定できることが見出され,PSD測定の上限濃度は元の溶液による濃厚スラリーを希釈することにより改善することができた。濃厚スラリー中のナノ粒子の分散状態は,元来の溶液による巨視的レオロジー特性,微視的PSDと希釈の組合せにより効果的に研究できることを推定した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 研磨 ,  粒度分布 ,  ナノ粒子 ,  ζ電位 ,  *分散【variance】 ,  希釈 ,  サイズ効果 ,  *スラリー
準シソーラス用語： レオロジー特性 ,  分散状態 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (1件)： 挙動