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J-GLOBAL ID:201602219219652347   整理番号:16A1358592

多層スペクトロメータを用いたアンジュレータ放射によるシリカベースの薄膜中の屈折率改良

Refractive-index modifications in Silica-Based Films by Undurator Radiation with a multilayer spectrometer
著者 (4件):
資料名:
巻: 17  ページ: 55-56  発行年: 2016年09月 
JST資料番号: L4711A  ISSN: 2189-6909  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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NewSUBARU(BL7A)によるアンジュレータ放射(UR)を,導波路のような光学素子の応用のためのシリカベースの薄膜の改質に用いた。試料として用いた多層スペクトロメータの有る場合と無い場合のURと観測した効果を比較した。スペクトロメータ無しでは,改質層は浅く強いもの及び比較的深く中程度のものの2つの部分に分離する。表面から厚さが5mm以下の薄膜は,URエネルギーに依存して強い変形と10-2程度の高い屈折率変化を示す。スペクトロメータがある場合は,UR照射後に比較的深く中程度に改質した層が観測されるが,表面変形層は認められない。スペクトロメータがある場合と無い場合に照射された試料間の差異は,照射強度あるいは試料温度の効果により生じている可能性がある。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
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その他の物質の放射線による構造と物性の変化  ,  酸化物薄膜 

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