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J-GLOBAL ID：201602221397715903   整理番号：16A1190848

プラズマ分子線散乱法による水素ラジカル吸着の計測

著者 (4件)： 齋木悠 (名古屋工大) ,  杵淵郁也 (東大) ,  FAN Yong (東大) ,  鈴木雄二 (東大)
資料名： 日本伝熱シンポジウム講演論文集(CD-ROM)
巻： 53rd  ページ： ROMBUNNO.I321  発行年： 2016年 
JST資料番号： F0872D  ISSN： 1346-1532  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 壁面の消炎効果には,ラジカル種の吸着・再結合に起因する化学的効果が存在するが,その詳細な消炎機構の解明には,様々なラジカルと壁面の吸着過程の定量評価が必要であり,測定可能なラジカルが限られる燃焼場での実験のみでアプローチするのは難しい。本研究では,ラジカルのオンデマンド生成を可能とする非平衡プラズマ源を備えた分子線銃,および超高真空チャンバから構成される新たな分子線散乱計測装置を構築し,化学的効果のモデリングにおいて極めて重要な水素ラジカルの壁面吸着挙動を解明することを目的とした。(著者抄録)

シソーラス用語： *燃焼器 ,  *消炎 ,  *器壁効果 ,  ラジカル ,  水素 ,  吸着 ,  表面反応 ,  評価 ,  定量分析 ,  分子ビーム ,  計測 ,  散乱 ,  散乱計測 ,  水素ラジカル ,  表面吸着
準シソーラス用語： 定量評価 ,  分子線 ,  *壁面効果

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  燃焼装置一般  (PA03010V)

タイトルに関連する用語 (6件)： プラズマ ,  分子線 ,  散乱 ,  水素ラジカル ,  吸着 ,  計測