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J-GLOBAL ID：201602222644523561   整理番号：16A0687506

高圧下でLi₃BN₂溶媒を使用する立方晶BNの成長機構

Growth mechanism of cubic BN using Li₃BN₂ solvent under high pressure

著者 (2件)： Fukunaga O. (Nippon Institute of Technology, 4-1, Miyashiro-cho, Saitama 345-8501, Japan) ,  Takeuchi S. (Nippon Institute of Technology, 4-1, Miyashiro-cho, Saitama 345-8501, Japan)
資料名： International Journal of Refractory Metals & Hard Materials  (International Journal of Refractory Metals & Hard Materials)
巻： 55  ページ： 54-57  発行年： 2016年02月 
JST資料番号： H0059B  ISSN： 0263-4368  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 立方晶BNの析出の圧力と温度領域をLi₃BN₂を合成溶媒として使用し,圧力と温度が3.5~66GPaと110~1800°C,そして0.3~1hrの範囲で調べた。BN-Li₃BN₂中の立方晶BNの生成の圧力と温度領域は一定の圧力の値で立方晶BNの生成の最低温度線と最高温度線により境界が定められた。この線は立方晶と六方晶BNの間の最低温度線のP(GPa)=[T(°C)/30]-37と最高温度境界のP(GPa)=[T(°C/465)]+0.79として決定した。約5GPaより低い圧力で反応して回収された試料は再結晶六方晶系BNと立方晶BNの混合物であった。準安定な六方晶系BNは立方晶BNが安定な圧力と温度領域内で急速に成長し,立方晶BNはこの準安定な六方晶計BNマトリックス中でゆっくり成長した。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *窒化物 ,  *リチウム化合物 ,  *ホウ素化合物 ,  *溶媒 ,  高圧 ,  *セラミック ,  *窒化ホウ素 ,  析出 ,  圧力 ,  温度 ,  時間 ,  六方晶系 ,  立方晶系 ,  *機構
準シソーラス用語： *成長機構 ,  *窒化リチウムホウ素 ,  *立方晶窒化ホウ素 ,  六方晶窒化ホウ素

著者キーワード (4件)： Cubic BN ,  Re-crystallized hBN ,  Growth of cBN in the Li₃BN₂ solvent ,  HPHT process

分類 (1件)： 窒素とその化合物  (YB02050S)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高圧 ,  溶媒 ,  立方晶 ,  BN ,  成長