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J-GLOBAL ID：201602223738252372   整理番号：16A0470807

低エネルギーX線を用いた斜入射小角X線散乱法によるブロック共重合体薄膜のミクロ相分離構造の深さ依存性と配向挙動の解析

Analysis of Depth-dependence and Orientation Behavior of Micro-phase Separated Structure of Block Copolymer Thin Films Investigated with GISAXS Measurement Utilizing Low Energy X-rays

著者 (2件)： 斎藤樹 (名古屋工大 大学院工学研究科) ,  山本勝宏 (名古屋工大 大学院工学研究科)
資料名： 日本ゴム協会誌  (Journal of the Society of Rubber Science and Technology, Japan)
巻： 89  号： 5  ページ： 121-128  発行年： 2016年05月15日 
JST資料番号： G0157A  ISSN： 0029-022X  CODEN： NGOKAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 低エネルギーX線を用いた斜入射小角X線散乱(GISAXS)法によるブロック共重合体薄膜の深さ分解構造解析手法の確立を目指した。GISAXS測定は,高エネルギー加速器研究機構内の大型放射高施設であるPhoton Factory BL-15A2にて行った。試料として,高真空下リビングアニオン重合により合成したポリスチレン-b-ポリ(2-ビニルピリジン)をスピンキャストにより薄膜として用いた。侵入深度を検討した。試料薄膜をアニールによりシリンダ状ミクロ相分離構造に配向させ,深さ分解構造解析を行った。配向が不完全な試料に対する解析も行った。ラメラ状ミクロ相分離構造の配向過程と深さ分解構造解析についても述べた。

シソーラス用語： P2VP ,  *ブロック共重合体 ,  ポリアクリル酸ブチル ,  ポリスチレン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *ミクロ相分離 ,  依存性 ,  構造解析 ,  *高分子薄膜 ,  小角X線散乱 ,  配向 ,  斜入射小角X線散乱 ,  深さ依存性

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

引用文献 (36件)：

• 1) Leibler, L.: Macromolecules, 13, 1602 (1980)
• 2) Khandpur, A. K.; Foerster, S.; Bates, F. S.; Hamley, I. W.; Ryan, A. J.; Bras, W.; Almdal, K.; Mortensen, K.: Macromolecules 28, 8796 (1995)
• 3) Park, S.; Lee, D. H.; Xu, J.; Kim, B.; Hong, S. W.; Jeong, U.; Xu, T.; Russell, T. P.: Science, 323, 1030 (2009)
• 4) Zhang, Q.; Cirpan, A.; Russell, T. P.; Emrick, T.: Macromolecules, 42, 1079 (2009)
• 5) Jackson, E. A.; Hillmyer, M.A.: ACS nano, 4, 3548 (2010)

タイトルに関連する用語 (10件)： 低エネルギー ,  X線 ,  斜入射小角X線散乱 ,  ブロック共重合体 ,  薄膜 ,  ミクロ相分離構造 ,  深さ依存性 ,  配向 ,  挙動 ,  解析