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J-GLOBAL ID：201602228804717534   整理番号：16A0753371

Raman分光法によって可視化したグラフェン膜中の厚さ依存性の自然な歪

Thickness-dependent native strain in graphene membranes visualized by Raman spectroscopy

著者 (3件)： Kim Sujin (Department of Chemistry, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 50 Jigokro-127, Pohang, Gyeongbuk 790-784, South Korea) ,  Ryu Sunmin (Department of Chemistry, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 50 Jigokro-127, Pohang, Gyeongbuk 790-784, South Korea) ,  Ryu Sunmin (Division of Advanced Materials Science, Pohang University of Science and Technology (POSTECH), 50 Jigokro-127, Pohang, Gyeongbuk 790-784, South Korea)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 100  ページ： 283-290  発行年： 2016年04月 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンは代表的な2次元結晶であり,極端な表面/体積比率を有し,その材料特性が環境との様々な相互作用に敏感なことが知られる。グラフェンは高い伸張性で外部乱れに特によく適応し,電子的や磁気的,化学的性質の変化をもたらす。この研究では,Raman分光歪測定法を紹介して,機械的に剥離した種々の厚さのグラフェンのシリカ基板とのvan der Waals相互作用によって生じた自然な歪を可視化する。歪なしの電荷中立な参照例として自立性グラフェンを使用して,0.02%の分解能で起こる歪を定量化して,その普及が層数の増加と共に減少して,約30層の厚さで検出限界に達することがわかった。空間的に決定した歪地図は,自然な歪がランダムに広がっており,圧縮と拡大の両方がランダムに発生することを明らかにした。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *グラフェン ,  単分子層 ,  多分子層 ,  基板 ,  van der Waals力 ,  歪 ,  歪分布 ,  Raman分光法 ,  可視化

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： Raman分光法 ,  可視化 ,  グラフェン膜 ,  厚さ依存性 ,  歪