抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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波長800nmの自由電子レーザー(Free Electron Laser:FEL),及びSiO
2/Si基板を用いて成長した単層カーボンナノチューブ(Single-Walled Carbon Nanotube:SWNT)のカイラリティ制御を試みた。FELを照射しながら化学気相成長(Chemical Vapor Deposition:CVD)法で成長させた基板表面像から成長したSWNTを確認した。また,Radial Breathing Mode(RBM)はラマン励起波長785nmにおいてのみ確認できたことから,FEL照射によりFELのエネルギーに相当するバンドギャップを有するSWNTのみ成長させられることが確かめられた。そこからSWNTの直径を算出するとFELの励起波長800nmの場合1.03nm,1.09nmの半導体性SWNTのみを成長したことが確認できた。この結果を間接的でなく直接的に電気測定を行うことによってSWNTsが半導体的性質を持つことを確認した。方法としてガスチャンバー冷却型クライオスタッドを用いて抵抗-温度測定を行った。結果として温度を50K以下にしていくにつれて急激に抵抗の値が高くなった。このことから直接的に半導体の性質を持つSWNTsがFEL照射すると半導体的性質が表れることが分かった。(著者抄録)