文献

J-GLOBAL ID：201602240503416370   整理番号：16A0835559

応力移動を用いて長いAg細線を生成

Forming long Ag thin wires by using stress migration

著者 (4件)： Lu Yebo (College of Mechanical and Electrical Engineering, Jiaxing University, 118 Jiahang Road, Jiaxing 314001, PR China) ,  Lu Yebo (Department of Nanomechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-01, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Li Yuan (Department of Nanomechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-01, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan) ,  Saka Masumi (Department of Nanomechanics, Tohoku University, Aoba 6-6-01, Aramaki, Aoba-ku, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 171  ページ： 72-74  発行年： 2016年05月15日 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 直径1~2μmの範囲,長さ~680μmまでのAg細線を応力移動を用いて金属多層試料中に作製した。大気条件下で加熱した試料はTi密着膜とTiN保護膜を有するCu箔上に堆積した薄いAg膜であった。加熱処理過程でAg膜に生成した圧縮応力は原子拡散のための駆動力となった。引張応力がTiN膜中に生成し,TiNの破壊強度を超える引張応力後に亀裂の原因となる脆性破壊が起こった。亀裂は長いAg細線を作製するための原子放出の経路を提供した。厚いTiN保護膜が細線形成に不可欠であることが注目された。長いAg細線はフレキシブルな透明電極,集積回路及び電磁システムの構成材料として大きな応用の可能性を提供する。Copyright 2016 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *マイグレーション【化学物質】 ,  *銀 ,  *細線 ,  多層膜 ,  銅箔 ,  スパッタ蒸着 ,  蒸着膜 ,  チタン ,  層 ,  チタン化合物 ,  窒化物 ,  圧縮応力 ,  拡散 ,  原子 ,  引張応力 ,  亀裂発生 ,  脆性破壊 ,  亀裂伝搬 ,  保護膜 ,  透明電極 ,  柔軟性 ,  集積回路 ,  電磁装置
準シソーラス用語： バリア層 ,  *応力マイグレーション ,  原子拡散 ,  窒化チタン

著者キーワード (5件)： Silver ,  Thin wires ,  Stress migration ,  Thin films ,  Multilayer structure

分類 (2件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： 応力 ,  Ag ,  細線