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J-GLOBAL ID：201602240558731677   整理番号：16A0945992

ドライプロセスの開発と応用 スパッタリングによる化合物薄膜作製

著者 (1件)： 井上泰志 (千葉工大 工)
資料名： ケミカルエンジニヤリング  (Chemical Engineering (Tokyo))
巻： 61  号： 10  ページ： 770-776  発行年： 2016年10月01日 
JST資料番号： F0134A  ISSN： 0387-1037  CODEN： CMNGA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 先に海外の新設工場の稼働に際し技術指導をしたり,従業員教育を行なった例を示した。ここでは,海外から製造プラントを受注して据え付けし,付属する排気処理装置の稼働を指導し,全面的な技術移転を行なった場合を例に,英語表現と講義の仕方を記してみたい。本稿では,プラント輸出と技術移転の契約の概要,文書の準備,技術移転のための講義の概要,現地でのプラント建設と技術移転などについて解説した。

シソーラス用語： 乾式法 ,  プロセス開発 ,  利用 ,  *スパッタリング ,  半導体薄膜 ,  製造 ,  プラント ,  輸出 ,  テクノロジートランスファ ,  契約 ,  文書 ,  作業 ,  学校教育 ,  *工場建設 ,  *薄膜成長
準シソーラス用語： ドライプロセス ,  応用 ,  作製 ,  技術移転 ,  文書作成 ,  講義

分類 (1件)： スパッタリング  (BK16110U)

タイトルに関連する用語 (6件)： ドライプロセス ,  開発 ,  応用 ,  スパッタリング ,  化合物薄膜 ,  作製