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J-GLOBAL ID：201602240624023606   整理番号：16A0446833

ファンデルワールス力を考慮した分子気体潤滑解析(クエット流の流速分布と速度スリップへの影響)

著者 (3件)： 山根清美 (松江工高専) ,  福井茂寿 (鳥取大 大学院) ,  松岡広成 (鳥取大 大学院)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.S1620104  発行年： 2015年09月12日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： コンピュータの磁気ディスク装置では,ディスク面上にヘッドが微小すきまで空気浮上している。この様に,ナノメートルオーダーで物体が近接するとファンデルワールス力が顕在化して,すきま内部の気体は固体面に引き寄せられる。本研究では,クエット流れの解析において,ファンデルワールス力の流量特性への影響を調べて以下の結果を得た。(1)ファンデルワールス力は,壁面での流速を増大させる。また,壁面での流速はすきま量によらず一定である。(2)ファンデルワールス力に起因する壁面での流速の増大は,すきま量が小さいほど顕著である。(著者抄録)

シソーラス用語： *van der Waals力 ,  解析 ,  *Couette流 ,  *流速分布 ,  コンピュータ ,  磁気ヘッド ,  *流量特性 ,  流動解析 ,  *間隙
準シソーラス用語： ナノメータ ,  *気体潤滑 ,  *磁気ディスク装置

分類 (2件)： 電子・磁気・光学記録  (NC06020F) ,  潤滑一般  (QB02010S)

タイトルに関連する用語 (7件)： ファンデルワールス力 ,  分子 ,  気体潤滑 ,  解析 ,  クエット流 ,  流速分布 ,  スリップ