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J-GLOBAL ID：201602240652596573   整理番号：16A0070582

グラフェン,BC_7,C_7Nに及ぼすLiの表面吸着および拡散挙動に関する第一原理研究【Powered by NICT】

First Principle Study on Surface Adsorption and Diffusion Behavior of Li on Graphene,BC_7,C_7 N

著者 (5件)： Liu Xuejie (School of Mechanical Engineering,Inner Mongolia Univ. of Sci. and Technol., Baotou) ,  Li Peiai (School of Mechanical Engineering,Inner Mongolia Univ. of Sci. and Technol., Baotou) ,  Jia Ying (School of Mechanical Engineering,Inner Mongolia Univ. of Sci. and Technol., Baotou) ,  Ren Yuan (School of Mechanical Engineering,Inner Mongolia Univ. of Sci. and Technol., Baotou) ,  Jia Guixiao (School of Materials and Metallurgy,Inner Mongolia Univ. of Sci. and Technol., Baotou)
資料名： Rengong Jingti Xuebao  (Rengong Jingti Xuebao)
巻： 44  号： 3  ページ： 816-822  発行年： 2015年 
JST資料番号： W0398A  ISSN： 1000-985X  CODEN： RJXUEN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： グラフェン,BC_7とC_7N表面上のリチウムの吸着と拡散挙動を第一原理法により計算した。純粋なグラフェンと比較して,12.5at%のほう素含有量は,Liの吸着エネルギーを著しく増大させるが,窒素含有量は12.5at%のときLiの吸着エネルギーは僅かに弱くなり,これはドーパントの異なる電子構造に起因すると考えられる。グラフェン,BC_7,C_7N表面におけるLiの拡散もナッジド弾性バンド法により計算し,その結果は無処理グラフェンと比較して,12.5at%のほう素含有量はLiの拡散を弱め,12.5at%の窒素含有量は,Liの拡散追い風を送ることを明らかにした。それは,充電と放電のためのグラフェンアノード材料の性能を向上させるのに役立つ。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 吸着エネルギー ,  弾性 ,  窒素 ,  充電 ,  *第一原理 ,  ドーパント ,  放電 ,  ホウ素 ,  電子構造 ,  *リチウム
準シソーラス用語： 負極材料 ,  表面吸着 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  その他の無機化合物の結晶成長  (BK13060T)

タイトルに関連する用語 (7件)： グラフェン ,  Li ,  表面吸着 ,  拡散 ,  挙動 ,  第一原理 ,  研究