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J-GLOBAL ID：201602240753460064   整理番号：16A0929163

HSQ被覆グラフェンのヘリウムイオンミリング: 基板膨潤とイメージング無秩序性の制御

Helium ion milling of HSQ covered graphene: Control of substrate swelling and imaging disorder

著者 (8件)： SCHMIDT Marek E. (JAIST) ,  HAMMAM Ahmed (JAIST) ,  HAMMAM Ahmed (Minia Univ.) ,  MURUGANATHAN Manoharan (JAIST) ,  OGAWA Shinichi (JAIST) ,  OGAWA Shinichi (AIST) ,  MIZUTA Hiroshi (JAIST) ,  MIZUTA Hiroshi (Southampton Univ.)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 77th  ページ： ROMBUNNO.13a-A32-8  発行年： 2016年09月01日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *グラフェン ,  *被覆 ,  *イオンエッチング ,  有機ケイ素化合物 ,  空間分解能 ,  パターン形成 ,  規則度
準シソーラス用語： ヘリウムイオン ,  水素シルセスキオキサン

分類 (2件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： グラフェン ,  ヘリウム ,  イオンミリング ,  膨潤 ,  イメージング ,  無秩序性