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J-GLOBAL ID：201602241528663927   整理番号：16A0324019

疎水性膜細孔の湿潤と乾燥の研究【Powered by NICT】

Research of wetting and drying of the hydrophobic membrane pore

著者 (5件)： Cheng Renren (Key Lab. of Hollow Fiber Membrane Materials and Membrane Process of Ministry of Education, Inst. of Biological and ...) ,  Lv Xiaolong (Key Lab. of Hollow Fiber Membrane Materials and Membrane Process of Ministry of Education, Inst. of Biological and ...) ,  Wu Chunrui (Key Lab. of Hollow Fiber Membrane Materials and Membrane Process of Ministry of Education, Inst. of Biological and ...) ,  Gao Qijun (Key Lab. of Hollow Fiber Membrane Materials and Membrane Process of Ministry of Education, Inst. of Biological and ...) ,  Chen Huayan (Key Lab. of Hollow Fiber Membrane Materials and Membrane Process of Ministry of Education, Inst. of Biological and ...)
資料名： Gongneng Cailiao  (Gongneng Cailiao)
巻： 46  号： 22  ページ： 22108-22112  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2095A  ISSN： 1001-9731  CODEN： GOCAEA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 疎水性膜細孔の乾燥問題に対して,著者らは,疎水性膜のための臨界ぬれの深さと自動脱水効果が膜細孔を乾燥の新しい方法を提案した。膜細孔の湿潤深さが臨界ぬれ深さより小さいときに,膜は,表面張力の影響下での自動脱水を実現できる。本論文では,ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム溶液は急速に汚染物質として用いた。ポリフッ化ビニリデン(PVDF)中空繊維疎水性膜は,膜細孔湿潤化及び脱水乾燥の研究のための真空膜蒸留(VMD)プロセスに適用した。結果は,厚さの異なる3種類の膜のための,疎水性膜のための臨界ぬれ深さであり,その値は(19.5±0.5)μm,深さは膜の厚さと関連していないことを示した。ぬれの深さは疎水性膜の臨界ぬれ以下であったとき,膜清浄,疎水性膜の自動脱水乾燥が達成され,膜蒸留プロセスの連続操作を可能にする。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 脱水 ,  汚染物質 ,  *湿潤 ,  界面張力 ,  臨界 ,  *疎水性 ,  連続操作 ,  濡れ ,  高速度 ,  *細孔
準シソーラス用語： 膜蒸留 ,  ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (4件)： 疎水性膜 ,  細孔 ,  湿潤 ,  研究