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J-GLOBAL ID:201602243104817510   整理番号:16A0558507

パルスレーザー堆積装置の立ち上げとレーザーの運転状況

著者 (5件):
資料名:
号: 2016-1  ページ: 57-60 (WEB ONLY)  発行年: 2016年05月 
JST資料番号: U0585A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
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KEK物構研ミュオン科学研究系では,上智大学と共同でパルスレーザー堆積法(PLD法)による薄膜作製装置の立ち上げを行っていて,超低速ミュオンビームラインで使用するサンプルの準備を行っている。パルスレーザー堆積法はレーザーアブレーション法とも呼ばれ,物理的気相堆積法(PVD法)の一種である。固体材料ターゲットにパルスレーザーを照射し,ターゲット成分をアブレーション蒸発させた数十eV程度の高速粒子により薄膜が形成される。本件ではNd:YAGレーザーの第三高調波を用いたPLD装置の立ち上げに関して,レーザーの運転と安全・真空・ガス等を中心に報告し,サンプルの作製状況に関しても触れる。(著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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薄膜成長技術・装置  ,  固体レーザ 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
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