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J-GLOBAL ID：201602243133378720   整理番号：16A0327546

EUVミラーとして設計されたAl(1 wt.%Si)/Zr多層膜の熱安定性に及ぼすSi障壁層の効果【Powered by NICT】

Effect of Si barrier layers on the thermal stability of Al(1 wt.%Si)/Zr multilayers designed as EUV mirrors

著者 (6件)： Li Jia (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...) ,  Zhu Jie (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...) ,  Zhang Zhong (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...) ,  Qi Runze (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...) ,  Zhong Qi (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...) ,  Wang Zhanshan (Inst. of Precision Optical Engineering, School of Physics Sci. and Engineering, Tongji Univ. MOE Key Lab. of ...)
資料名： Hongwai yu Jiguang Gongcheng  (Hongwai yu Jiguang Gongcheng)
巻： 44  号： 4  ページ： 1335-1342  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2521A  ISSN： 1007-2276  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al/Zr多層膜の熱安定性を改善するために,Si障壁層の異なる厚さ(0.4nm,0.6nmと0.8nm)を用いた18Al(1 wt.%Si)/Zr多層膜を,直流マグネトロンスパッタリングシステムを用いて作製した。すべての多層膜は,真空炉中で1の100°Cから500°Cまでアニールした。Al/Zr系の熱安定性に及ぼすSi障壁層の影響を評価するために,多層膜は,すれすれ入射X線反射(GIXR)とX線回折(XRD)によって特性化した。GIXRにおける合金中間層モデルから,Al層の粗さはSi障壁層の厚さの増加と共に減少し,一方,Zr層の粗さは増加する。XRDに基づいて,AlおよびZrの結晶サイズの変化傾向はGIXRで結果を説明できる。アニーリング過程におけるSi障壁層のない多層膜と比較して,Si障壁層(0.6 nm)した試料は良好な構造性能の多層膜は300°C以上で安定な構造性能を持つことができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *アルミニウム ,  真空炉 ,  焼なまし ,  キャラクタリゼーション ,  *ケイ素 ,  表面粗さ ,  すれすれ入射 ,  *ジルコニウム ,  X線反射 ,  *多層膜 ,  X線回折 ,  *熱安定性
準シソーラス用語： 中間層 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  *バリア層 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  (BD07032W) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I)

タイトルに関連する用語 (9件)： EUV ,  ミラー ,  設計 ,  Al ,  Zr ,  多層膜 ,  熱安定性 ,  Si ,  障壁層