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J-GLOBAL ID：201602246563026028   整理番号：16A0446522

フェムト秒レーザ直接還元描画法による微細Cuパターンの導電特性

著者 (4件)： 荒金駿 (名古屋大) ,  溝尻瑞枝 (名古屋大) ,  櫻井淳平 (名古屋大) ,  秦誠一 (名古屋大)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.S0440102  発行年： 2015年09月12日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： CuOナノ粒子のフェムト秒レーザ熱還元によって作製した微細パターンの導電性及び抵抗温度特性を評価した。まず,CuOナノ粒子に還元剤であるエチレングリコールとポリビニルピロリドンを超音波撹拌し,CuOナノ粒子溶液を調製した。次に,CuOナノ粒子溶液をフェムト秒レーザによって還元・焼結させ,微細パターンを作製した。レーザ描画速度により,微細パターンのXRDスペクトルの主ピーク比から,Cu-rich及びCu₂O-richな微細パターンが形成され,それぞれ,金属及び半導体の抵抗温度係数の特性を示した。(著者抄録)

シソーラス用語： *フェムト秒レーザ ,  *直接還元法【高炉操業】 ,  画像処理 ,  *熱化学反応 ,  *導電性 ,  *還元剤 ,  ポリビニルピロリドン ,  *レーザリソグラフィー ,  *X線回折 ,  半導体 ,  焼結 ,  3Dプリンタ ,  脂肪族アルコール ,  ジオール
準シソーラス用語： *CuOナノ粒子 ,  *温度特性 ,  抵抗温度係数 ,  *熱還元 ,  *微細パターン形成

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： エチレングリコール

タイトルに関連する用語 (5件)： フェムト秒レーザ ,  直接還元 ,  描画 ,  Cu ,  導電特性