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J-GLOBAL ID：201602252308248696   整理番号：16A1274035

Effects of annealing temperature on characteristics of amorphous nickel carbon thin film alloys deposited on n-type silicon substrates by reactive sputtering

著者 (2件)： Hong Zih-Chen (Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, 250 Kuo Kuang Road, Taichung, 40227, Taiwan) ,  Shiue Sham-Tsong (Department of Materials Science and Engineering, National Chung Hsing University, 250 Kuo Kuang Road, Taichung, 40227, Taiwan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 618  号： PA  ページ： 21-27  発行年： 2016年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

著者キーワード (4件)： Carbon ,  Nickel ,  Annealing temperature ,  Reactive sputtering