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J-GLOBAL ID：201602257364307397   整理番号：16A0081060

微結晶シリコン薄膜の光学的発光分光法と微細構造に及ぼすシラン注入方法の影響【Powered by NICT】

Influence of silane injection ways on optical emission spectroscopy and microstructure of microcrystalline silicon thin film

著者 (6件)： Li Xinli (School of Materials Sci. and Engineering,Henan Univ. of Sci. and Technology; Collaborative Innovation Center of ...) ,  Ren Fengzhang (School of Materials Sci. and Engineering,Henan Univ. of Sci. and Technology; Collaborative Innovation Center of ...) ,  Ma Zhanhong (School of Materials Sci. and Engineering,Henan Univ. of Sci. and Technology; Collaborative Innovation Center of ...) ,  Li Wuhui (School of Materials Sci. and Engineering,Henan Univ. of Sci. and Technology; Collaborative Innovation Center of ...) ,  Wang Yufei (School of Materials Sci. and Engineering,Henan Univ. of Sci. and Technology; Collaborative Innovation Center of ...) ,  Lu Jingxiao (Key Lab. of Materials Physics,Dep. of Physics,Zhengzhou Univ., Zhengzhou)
資料名： Cailiao Rechuli Xuebao  (Cailiao Rechuli Xuebao)
巻： 36  号： 4  ページ： 7-12  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2127A  ISSN： 1009-6264  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 微結晶シリコン薄膜と太陽電池は,非常に高い周波数のプラズマ強化化学蒸着(VHF-PECVD)法を用いて堆積した。さまざまなSiH4注入方法を用いて堆積させた真性微結晶シリコン薄膜の成長プロセスを光学発光分光でモニターしオンラインであった。その結果,シランプロファイリング注入方法を用いた膜成長中の他の2方法より優れていることを示した。薄膜成長過程の間,H_α~*,H_β~*とSiH~*の発光強度は増加傾向を示し,初期析出段階におけるH_α~*/SiH~*の高い比は高品質界面層の形成に寄与し得る。この方法を用いて,太陽電池性能のかなりの改善が達成された。1nm/sの蒸着速度での単一接合微結晶シリコン太陽電池は7.81%の高い変換効率である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 太陽電池 ,  薄膜成長 ,  *発光分光法 ,  微細構造 ,  プラズマCVD ,  *微結晶 ,  *シラン
準シソーラス用語： 変換効率 ,  結晶シリコン太陽電池 ,  蒸着速度 ,  界面層 ,  高品質 ,  発光強度 ,  オンライン ,  *シリコン薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 機械的性質  (WB02030U) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (7件)： 微結晶 ,  シリコン薄膜 ,  光学 ,  発光分光法 ,  微細構造 ,  シラン ,  注入