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J-GLOBAL ID:201602258351704132   整理番号:16A0837152

パルス化DC反応マグネトロンスパッター蒸着で成長された酸化クロム酸の結合構造と形態

Bonding structure and morphology of chromium oxide films grown by pulsed-DC reactive magnetron sputter deposition
著者 (4件):
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巻: 672  ページ: 529-535  発行年: 2016年07月05日 
JST資料番号: D0083A  ISSN: 0925-8388  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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酸化クロム(CrOx)薄膜をAr/O2放電中でガス混合物中のO2の割合(f)の関数として最大450°Cの基材温度tsでパルス化DC反応マグネトロンスパッター蒸着で育成した。試料をRutherford後方散乱分光(RBS),分光エリプソメトリー(SE),原子間力顕微鏡(AFM),(SEM),走査電子顕微鏡(SEM),透過電子顕微鏡(TEM),X線回折(XRD),およびX線近吸収端構造(XANES)によって分析した,加熱しない基材の上ではfの増加で,成長速度は大きくなり,O/Cr比(x)が~2から~2.5まで上昇した。逆に,Tsを増加すると原子導入速度が低下し,xは~1.8に落下した。XRDによると加熱しない基材に育成した試料は無定形で,Tsを増加するとナノ結晶質のCr2O3(x=1.5)が形成された。無定形のCrOx中ではXANESによって多重のCr環境の存在が明らかにされた。これは混合原子価の酸化物の成長を示している。fの増加とともに六価状態の連続的な促進が認められた。XANESのデータで高いTsでは単相のナノ結晶質のCr2O3の形成も確認された。これらの構造変化は膜の光学特性や形態特性にも反映された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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非金属材料へのセラミック被覆  ,  酸化物薄膜 

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