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J-GLOBAL ID：201602265961960229   整理番号：16A1315056

収束電子線を用いた断面プロファイル計測システムの開発

著者 (6件)： 高橋孝 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  五十嵐大裕 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  太田昇吾 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  遠藤彰 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  鷲尾方一 (早稲田大 理工学術院 総合研) ,  坂上和之 (早稲田大 高等研)
資料名： 放射線プロセスシンポジウム講演要旨・ポスター発表要旨集
巻： 16th  ページ： 74  発行年： 2016年 
JST資料番号： L1934A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *電子ビーム ,  計測システム ,  *Compton散乱 ,  *形態 ,  断面 ,  *レーザビーム ,  高出力レーザ ,  レーザプラズマ ,  *逆Compton散乱 ,  *ビームプロファイル ,  プラズマ
準シソーラス用語： *ビーム形状 ,  断面形状

分類 (1件)： レーザ一般  (BD04030T)

タイトルに関連する用語 (4件)： 収束電子線 ,  プロファイル ,  計測システム ,  開発