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J-GLOBAL ID:201602266327141965   整理番号:16A0977859

超低電圧応用のための28nm FDSOI技術サブ6V SRAM Vmin評価【Powered by NICT】

28nm FDSOI technology sub-0.6V SRAM Vmin assessment for ultra low voltage applications
著者 (21件):
資料名:
巻: 2016  号: VLSI Circuits  ページ: 1-2  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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-40°Cから125°Cに128Mb SRAMビットセルに28nm FDSOI技術におけるVmin測定を報告した。シリコン時効挙動とプロセス変動を添加すると,完全なモデルを開発し,0.120μmの約2と0.152μm 2ビットセル20mb0.6Vおよび0.5Vの耐用年数を経たSRAM Vminをそれぞれ示した。は,28nmノードでのそのような広範なSRAM Vmin評価の最初の報告である。書込み補助設計手法と結合した書込み制限ビットセルの構築は28nm FDSOI技術における超低Vminを達成するための最も効率的な方法であることが分かった。添加では,0.4V以下のVmin保持率は0.120μm 2ビットセルにおいて示し,保持モードで2pA/cellを用いた超低漏れビットセルの可能性をもたらした。Copyright 2016 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (6件):
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専用演算制御装置  ,  図形・画像処理一般  ,  集積回路一般  ,  記憶方式  ,  符号理論  ,  パターン認識 
タイトルに関連する用語 (6件):
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