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J-GLOBAL ID:201602270187677353   整理番号:16A0856654

1つの高速自動焦点の相転移リソグラフィシステムに基づく【JST・京大機械翻訳】

A phase-change lithography system based on a fast autofocusing method
著者 (3件):
資料名:
巻: 40  号:ページ: 178-182  発行年: 2016年 
JST資料番号: C2072A  ISSN: 1001-3806  CODEN: JJISEO  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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亜回折レベルのリソグラフィーパターンを得るために,1つの光、機電一体化の相転移リソグラフィシステムを設計する。,遅延パルス技術を用いて,分解能は1NSであり、変調のデジタル信号を発生する駆動を行うレーザに対して,対応するパルス幅のレーザパルスを得るために,次にLABVIEWソフトウェアとマイクロコントローラにより,システムの各部品が計算機との間で通信を行い,システムの全自動リソグラフィープロセスを実現した。をGE_2SB_2TE_5薄膜はベースの材料であり,その光学的性質を利用して1つの相転移材料に対する高速自動焦点法を提案した,そして最終的にこの相転移リソグラフィシステム上で成功裏にして線幅はそれぞれ0.69ΜMのGE_2SB_2TE_5結晶化図形が得られた。このサイズは,レーザ焦点スポットより,はるかに小さかった。結果は,この方法が高精度、容易な操作、実現コストが低い等の利点を有し,この簡易相転移リソグラフィシステムの設計に対して,良い指導的意義を有することを示した。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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固相転移  ,  固体デバイス製造技術一般 
タイトルに関連する用語 (3件):
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