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J-GLOBAL ID：201602271761922534   整理番号：16A0928053

side-on型ホスファシレン配位子をもつイリジウム錯体の合成,構造および反応性

著者 (4件)： 寺内裕哉 (弘前大 大学院) ,  小黒哲明 (弘前大 大学院) ,  太田俊 (弘前大 大学院) ,  岡崎雅明 (弘前大 大学院)
資料名： 錯体化学会討論会講演要旨集  (Book of Abstracts. JSCC Annual Symposium)
巻： 66th  ページ： 92  発行年： 2016年08月30日 
JST資料番号： G0400B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *錯体生成 ,  *イリジウム錯体 ,  *反応性 ,  *分子構造 ,  Lewis塩基 ,  Lewis酸 ,  ヒドリド錯体 ,  二酸化炭素 ,  X線構造解析 ,  付加反応 ,  酸化的付加
準シソーラス用語： *化学反応性 ,  酸化的付加反応

分類 (1件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E)

物質索引 (2件)： トリメチルホスフィン ,  ジメチルシロキシカルボニル(メシチル)ホスフィン

タイトルに関連する用語 (3件)： 配位子 ,  イリジウム錯体 ,  反応性