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J-GLOBAL ID:201602271765969684   整理番号:16A1364146

Pt(111)上に成長したグラフェン及び窒化ホウ素単分子層の水素インターカレーション

Hydrogen Intercalation of Graphene and Boron Nitride Monolayers Grown on Pt(111)
著者 (6件):
資料名:
巻: 59  号: 5-7  ページ: 543-549  発行年: 2016年03月 
JST資料番号: W1435A  ISSN: 1022-5528  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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H2雰囲気は,しばしば二次元(2D)原子結晶の成長及び適用に含まれる。H2分子と2D材料の相互作用を理解することは非常に重要である。ここで,Pt(111)上に成長した完全グラフェン層及び完全六方晶系窒化ホウ素(h-BN)層をH2雰囲気に曝露した。このものをin situ近常圧X線光電子分光法擬似in situ紫外光電子分光法により研究した。常圧H2におけるグラフェン及びh-BN被覆層の水素インターカレーションの発生を確認した。室温での0.1Torr H2における水素インターカレーション及び200°Cでの0.1Torr H2における水素脱着は,グラフェン/Pt(111)及びh-BN/Pt(111)表面で完全に可逆性であった。さらに,グラフェン/Pt(111)及びh-BN/Pt(111)表面での水素脱着は,グラフェン及びh-BN被覆効果により,Pt(111)でのそれより,一層低温で起こることが分かった。Copyright 2015 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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界面化学一般  ,  貴金属触媒 

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