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J-GLOBAL ID：201602272151374361   整理番号：16A1305677

紫外線で励起された光触媒とCathilonによるCo-Cr-Mo合金の研磨

著者 (1件)： 田中武司 (立命館大学)
資料名： 精密工学会誌(Web)  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Web))
巻： 82  号： 7  ページ： 690-696(J-STAGE)  発行年： 2016年 
JST資料番号： U0462A  ISSN： 1882-675X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代半導体材料のダイヤモンドやSiCを紫外光支援加工により,超平滑に仕上げようとする研究が精力的に行われている。本論文では,光触媒(Tio₂)水溶液,Cathilon水溶液とそれらの混合水溶液に浸漬した純CoをXPSにより定性的に分析した。また,Co,Cr,Moなどの酸化溶解量をICPSにより定量的に分析した。Co合金の研磨において,どのような反応生成物が除去されるかを推測するため,Cathilonと水の分解から生成する化合物を考察した。Tio₂スラリー,Cathilonスラリーおよびそれらの混合スラリーにより,Co合金の研磨を行い,紫外線励起加工の有用性を明らかにした。

シソーラス用語： 量子化学 ,  電子 ,  正孔 ,  励起 ,  *光触媒 ,  X線光電子分光法 ,  *コバルト合金 ,  *クロム含有合金 ,  *モリブデン含有合金 ,  *紫外線照射 ,  *化学機械研磨 ,  平滑化 ,  *酸化チタン ,  定性分析 ,  超LSI
準シソーラス用語： 紫外線励起 ,  ULSI

著者キーワード (16件)： quantum chemistry ,  electron ,  hole ,  ultraviolet-ray exciting ,  photocatalyst ,  cathilon ,  polishing ,  Co-Cr-Mo alloy ,  quantum chemistry ,  electron ,  hole ,  ultraviolet-ray exciting ,  photocatalyst ,  cathilon ,  polishing ,  Co-Cr-Mo alloy

分類 (3件)： その他の表面処理  (WC08070F) ,  研削  (QC03000R) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (13件)：

• 1) 桐野宙治, 榎本俊之:真空紫外光を用いた銅の砥粒フリー研磨法の開発, 日本機械学会論文集(C編), 74, 742 (2008-6) 1656.
• 2) 渡邊純二, 峠 睦:紫外光励起によるダイヤモンドの超精密研磨技術, 機械技術, 60, 5 (2012) 46.
• 3) 坂本武司, 稲木 匠, 小田和明, 峠 睦, 藤田 隆:4インチSiC基板のUVアシスト研磨に関する研究, 砥粒加工学会誌, 58, 4(2014)235.
• 4) 坂本武司, 南部陽亮, 齋藤廉平, 峠 睦, 川下智幸, 峠 直樹:ダイヤモンド砥粒整列ブロックのUVツルーイング技術の開発, 砥粒加工学会誌, 57, 9(2013)600.
• 5) 大吉利洋, 雲宝広貴, 磯野吉正, 田中武司:紫外線励起によるマシニングの研究(第1報)-基本原理と基礎的現象の検証, 1999年度精密工学会関西支部定期学術講演会講演論文集 (1999) 31.

タイトルに関連する用語 (4件)： 紫外線 ,  励起 ,  光触媒 ,  研磨