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J-GLOBAL ID:201602276309557674   整理番号:16A0780740

レーザ直接描画3Dナノリソグラフィにおけるフェムト秒パルス偏光誘起効果

Femtosecond pulsed light polarization induced effects in direct laser writing 3D nanolithography
著者 (7件):
資料名:
巻: 9736  ページ: 973608.1-973608.15  発行年: 2016年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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描画レーザビームの偏光,集光,熱伝導の間の結合が,レーザ照射領域の大きさ,形状および吸収にどのように影響するかを示した。レーザで生成した三次元構造は数nm規模のスケールで制御できた。具体的には,ハイブリッドSZ2080レジストで3D懸垂線のアスペクト比を最大20%まで調整できた。吸収と共に偏光が温度勾配と一致するとき,電子熱伝導の増加により効果が増強されることを示した。偏光,集光,熱伝導の効果の重なりは,焦点楕円の二つの軸の間で数十nmの差をもたらした。偏光と走査方向が一致するときは狭い線が現れ,これらの方向が互いに垂直であるときは広い線が生じた。この効果は,ナノ構造の幅を制御する可能性を与えるレーザ強度に比例した。これらの影響は一般的な性質であり,直線偏光の厳密な集束を用いてプラズマが生成される任意のレーザ物質相互作用実験において観察できる。
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分類 (1件):
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固体デバイス製造技術一般 
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