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J-GLOBAL ID：201602276309557674   整理番号：16A0780740

レーザ直接描画3Dナノリソグラフィにおけるフェムト秒パルス偏光誘起効果

Femtosecond pulsed light polarization induced effects in direct laser writing 3D nanolithography

著者 (7件)： MALINAUSKAS Mangirdas (Vilnius Univ., Vilnius, LTU) ,  REKSTYTE Sima (Vilnius Univ., Vilnius, LTU) ,  JONAVICIUS Tomas (Vilnius Univ., Vilnius, LTU) ,  GAILEVICIUS Darius (Vilnius Univ., Vilnius, LTU) ,  MIZEIKIS Vygantas (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  GAMALY Eugene G. (Australian National Univ., ACT, AUS) ,  JUODKAZIS Saulius (Swinburne Univ. Technol., VIC, AUS)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9736  ページ： 973608.1-973608.15  発行年： 2016年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 描画レーザビームの偏光,集光,熱伝導の間の結合が,レーザ照射領域の大きさ,形状および吸収にどのように影響するかを示した。レーザで生成した三次元構造は数nm規模のスケールで制御できた。具体的には,ハイブリッドSZ2080レジストで3D懸垂線のアスペクト比を最大20%まで調整できた。吸収と共に偏光が温度勾配と一致するとき,電子熱伝導の増加により効果が増強されることを示した。偏光,集光,熱伝導の効果の重なりは,焦点楕円の二つの軸の間で数十nmの差をもたらした。偏光と走査方向が一致するときは狭い線が現れ,これらの方向が互いに垂直であるときは広い線が生じた。この効果は,ナノ構造の幅を制御する可能性を与えるレーザ強度に比例した。これらの影響は一般的な性質であり,直線偏光の厳密な集束を用いてプラズマが生成される任意のレーザ物質相互作用実験において観察できる。

シソーラス用語： *レーザリソグラフィー ,  ナノ構造 ,  *レーザパルス ,  パルスレーザ ,  パルス幅 ,  偏光 ,  集光 ,  熱伝導 ,  パルスレーザ照射 ,  プラズマ生成 ,  熱流束 ,  *光重合 ,  アスペクト比
準シソーラス用語： ナノリソグラフィー ,  *レーザ直接描画

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： レーザ直接描画 ,  3D ,  ナノリソグラフィ ,  フェムト秒パルス ,  偏光