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J-GLOBAL ID：201602280171889616   整理番号：16A0794746

ブレーズド格子のグラフィックに基づく高分解能干渉リソグラフィを実現した。【JST・京大機械翻訳】

High resolution pattern-integrated interference lithography based on blazed grating

著者 (5件)： Hu Jin (College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University) ,  Dong Xiaoxuan (College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University) ,  Pu Donglin (College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University) ,  Shen Su (College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University) ,  Chen Linsen (College of Physics, Optoelectronics and Energy, Soochow University)
資料名： Guangxue Jingmi Gongcheng  (Guangxue Jingmi Gongcheng)
巻： 23  号： 12  ページ： 3335-3342  発行年： 2015年 
JST資料番号： C2090A  ISSN： 1004-924X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： グラフィックを干渉リソグラフィー品質を向上するために,ブレーズド格子のパターン化を干渉リソグラフィー(PIIL)システムに基づく,このシステムに採用した光学原理と実現方法を提案し,研究を行った。まず,グラフィック干渉リソグラフィーシステムの光場の特性を解析し,その分解能向上の原理について述べた。光学系の帯域幅とパターンの分布は,リソグラフィーの図形品質への影響は,図形の品質制御を与えるプロセスの方法を論じた。次に,1つの新型のパターン化を,この方法でブレーズド回折分光器件として,一体の位相と振幅変調を実現した格子を採用して干渉リソグラフィー法を提案した。ブレーズド格子の回折と特性面光場のように分布をシミュレーションし,ブレーズド格子の最適化設計方法を検討し数値計算法を用いて,得た92.3%の±1次回折効率に達した。最後に,グラフィック干渉リソグラフィーシステムを設計して,ディジタルマイクロミラー素子(DMD)とミニチュアイメージング光通信路に基づいて開発し,実験で画素化の格子図形と品質は明らかに改善のリソグラフィー画像を取得して,この方法は任意の図形に対する適用性を検証した。Data from the ScienceChina, LCAS.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 分光計 ,  数値計算 ,  リソグラフィー ,  位相 ,  *分解能 ,  回折効率 ,  振幅変調 ,  光通信 ,  パターン形成 ,  最適設計 ,  帯域幅 ,  *高分解能 ,  画素
準シソーラス用語： *干渉リソグラフィー ,  *エシェレット格子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： pattern-integrated interference lithography ,  Fourier optics ,  diffraction efficiency ,  laser direct writing ,  Digital Mirror Device(DMD)

分類 (1件)： 光デバイス一般  (BD06010L)

タイトルに関連する用語 (4件)： ブレーズド格子 ,  グラフィック ,  高分解能 ,  干渉リソグラフィ