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J-GLOBAL ID：201602293901901955   整理番号：16A0754987

メカノケミカル法による水からの水素発生:シリコンの表面酸化と水素発生

著者 (3件)： 沖野有希 (広島大 大学院) ,  齋藤健一 (広島大 大学院) ,  齋藤健一 (広島大 自然セ)
資料名： 日本化学会中国四国支部大会講演要旨集
巻： 2015  ページ： 162  発行年： 2015年11月07日 
JST資料番号： L1355B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *固相反応 ,  *水 ,  *ケイ素 ,  *酸化 ,  *水素発生反応 ,  反応速度 ,  粉砕 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  動的光散乱 ,  X線光電子スペクトル ,  拡散反射 ,  赤外分光法 ,  二酸化ケイ素 ,  *メカノケミカル反応 ,  *表面酸化

分類 (1件)： その他の無触媒反応  (CB06070U)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水 ,  水素発生 ,  シリコン ,  表面酸化