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J-GLOBAL ID：201602297028403177   整理番号：16A0446406

シリカ微小球の自己組織化を利用した熱電発電用反射防止構造の作製

著者 (5件)： 近藤祐 (名古屋大 大学院工学研究科) ,  溝尻瑞枝 (名古屋大 大学院工学研究科) ,  三上裕史 (産業技術総合研 無機機能材料研究部門) ,  櫻井淳平 (名古屋大 大学院工学研究科) ,  秦誠一 (名古屋大 大学院工学研究科)
資料名： 日本機械学会年次大会講演論文集(CD-ROM)  (日本機械学会年次大会(CD-ROM))
巻： 2015  ページ： ROMBUNNO.J2220201  発行年： 2015年09月12日 
JST資料番号： X0587C  ISSN： 2424-2667  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究では,pn接合の高温部に反射防止構造を付与した薄膜熱電デバイスの作製を行った。最初に厳密結合波解析を用いて,反射防止構造の形状を設計した。反射防止用微細周期構造は,周期200nmで反射率は最も低く,6.7%となった。反射防止構造はシリカ微小球を配列し,その上にCuOを反応性スパッタリングにより成膜することにより作製した。更に,バルク熱電デバイスに付与して発電特性を評価し,近赤外太陽光を効率的に吸収することを確認した。(著者抄録)

シソーラス用語： *二酸化ケイ素 ,  *ミクロスフェア ,  *自己組織化 ,  *熱電発電 ,  PN接合 ,  薄膜 ,  *熱電素子 ,  電磁場解析 ,  反射率 ,  酸化第二銅 ,  *反応性スパッタリング ,  近赤外線 ,  *太陽光 ,  浸漬塗装 ,  石英ガラス
準シソーラス用語： バルク ,  *厳密結合波解析 ,  成膜 ,  発電特性 ,  *反射防止構造

分類 (1件)： 熱電デバイス  (NC03090J)

タイトルに関連する用語 (6件)： シリカ ,  微小球 ,  自己組織化 ,  熱電発電 ,  反射防止構造 ,  作製