特許
J-GLOBAL ID：201603000245153288

ミラーの表面形態を補正する方法

発明者：
ユルゲン ミューラー

ユルゲン ミューラー について

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トーマス シッケタンツ

トーマス シッケタンツ について

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ディルク ハインリッヒ エーム

ディルク ハインリッヒ エーム について


出願人/特許権者：
カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー について


代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-558356
特許番号：特許第6000291号
出願日： 2012年02月27日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 5nm〜30nmの範囲の作動波長を有する放射線を反射するミラー(1、201、301、401)の表面形態を補正する方法であって、前記ミラーは基板(3、203)を備える方法において、少なくとも以下のステップ: ・前記ミラー(1、201、301、401)の表面形態を補正するための層厚変動(21)を有する補正層(13、213)を施すステップと、 ・第1層群(19、219)を前記補正層(13、213)に施すステップであり、前記第1層群(19、219)は、上下に交互配置した複数の第1層(9、209)及び第2層(11、211)を含み、前記作動波長を有する放射線に対する前記第1層(9、209)の屈折率は、前記作動波長を有する放射線の前記第2層(11、211)の屈折率よりも大きいステップと を含み、前記ミラー(1、201、301、401)の表面形態を補正するために前記層厚変動(21)を有する前記補正層(13、213)を施すステップを、以下のステップ: ・反応ガス(15、215)を含む雰囲気に前記ミラー(1、201、301、401)を導入するステップと、 ・場所依存性層厚変動(21)を有する補正層(13、213)が前記ミラー(1、201、301、401)の照射面上で成長するように、場所依存性放射エネルギー密度を有する補正放射線(17、217、317)を前記ミラー(1、201、301、401)に施すステップと により行う方法。
IPC (4件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  G02B 5/10 ( 200 6.01) ,  C23C 16/32 ( 200 6.01) ,  G02B 17/06 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/20 503 ,  G02B 5/10 C ,  C23C 16/32 ,  G02B 17/06
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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