特許
J-GLOBAL ID:201603000281065182
フォトリフラクティブ材料組成物及びフォトリフラクティブポリマー素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-160066
公開番号(公開出願番号):特開2016-048368
出願日: 2015年08月14日
公開日(公表日): 2016年04月07日
要約:
【課題】応答性を格段に向上させた高速応答性フォトリフラクティブポリマー素子を提供する【解決手段】フォトリフラクティブポリマー、増感剤、非線形光学色素、可塑剤及びN型有機半導体を含み、前記フォトリフラクティブポリマーがポリ[ビス(4-フェニル)(2、4、6-トリメチルフェニル)アミン](PTAA)である、フォトリフラクティブ材料組成物。【選択図】図1
請求項(抜粋):
フォトリフラクティブポリマー、増感剤、非線形光学色素、可塑剤及びN型有機半導体を含み、前記フォトリフラクティブポリマーがポリ[ビス(4-フェニル)(2、4、6-トリメチルフェニル)アミン](PTAA)である、フォトリフラクティブ材料組成物。
IPC (3件):
G03H 1/02
, G03H 1/22
, G02F 1/361
FI (3件):
G03H1/02
, G03H1/22
, G02F1/361
Fターム (19件):
2K008AA14
, 2K008DD12
, 2K008FF07
, 2K102AA23
, 2K102BA05
, 2K102BB04
, 2K102BC01
, 2K102BD08
, 2K102BD09
, 2K102CA18
, 2K102CA28
, 2K102DA01
, 2K102DD01
, 2K102EA02
, 2K102EA14
, 2K102EB02
, 2K102EB10
, 2K102EB12
, 2K102EB20
引用文献:
審査官引用 (2件)
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Grating dynamics in a photorefractive polymer with Alq3 electron traps
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Improvement in photorefractivity of a polymeric composite doped with the elctron-injecting material
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