特許
J-GLOBAL ID:201603000393704706

近赤外光領域波長低光学損失の透明導電膜及び該透明導電膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清原 義博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-011786
公開番号(公開出願番号):特開2016-135904
出願日: 2015年01月23日
公開日(公表日): 2016年07月28日
要約:
【課題】ガリウムが添加された酸化亜鉛薄膜であり、低光学損失、及び低電気抵抗率にすぐれた透明導電膜及び低光学損失、及び低電気抵抗率にすぐれた透明導電膜の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】ガリウムが添加された酸化亜鉛薄膜の透明導電膜であって、電気抵抗率が3.5×10-4Ωcm以下であり、キャリア密度が6.8×1020/cm3以上であり、ホール移動度が27cm2/Vs以上であることを特徴とする透明導電膜である。【選択図】図2
請求項(抜粋):
ガリウムが添加された酸化亜鉛薄膜の透明導電膜であって、 電気抵抗率が3.5×10-4Ωcm以下であり、キャリア密度が6.8×1020/cm3以上であり、ホール移動度が27cm2/Vs以上であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (3件):
C23C 14/08 ,  H01B 5/14 ,  H01B 13/00
FI (3件):
C23C14/08 C ,  H01B5/14 A ,  H01B13/00 503B
Fターム (12件):
4K029AA09 ,  4K029BA49 ,  4K029BC09 ,  4K029CA04 ,  4K029DB05 ,  4K029DD05 ,  4K029DD06 ,  5G307FA01 ,  5G307FB01 ,  5G307FC09 ,  5G323BA02 ,  5G323BB04

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