特許
J-GLOBAL ID：201603000399424950
ガス処理方法およびガス処理設備
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
藤本 昇
, 中谷 寛昭
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-244734
公開番号（公開出願番号）：特開2014-091666
特許番号：特許第6008242号
出願日： 2012年11月06日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 セメント原料を焼成する焼成設備から排出される排ガス中のダストを電気集塵機を用いて集塵する第一集塵工程と、第一集塵工程後の排ガスからダストを集塵する第二集塵工程とを備える集塵工程と、該集塵工程後の排ガス中の揮発性物質の濃度を測定する濃度測定工程とを備え、集塵工程で集塵されるダストの少なくとも一部をセメント原料として前記焼成設備へ供給するガス処理方法であって、
前記第二集塵工程で集塵されるダストから揮発性物質を除去する揮発性物質除去工程と、前記第二集塵工程で集塵されるダストの粒度分布を測定する粒度測定工程とを更に備え、
前記濃度測定工程における測定結果および前記粒度測定工程における測定結果に基づいて、前記電気集塵機への印加電圧を調節することで、前記第二集塵工程で集塵されるダストの集塵量を調整することを特徴とするガス処理方法。
IPC (3件)：
C04B 7/60 ( 200 6.01)
, C04B 7/38 ( 200 6.01)
, B03C 3/68 ( 200 6.01)
C04B 7/60
, C04B 7/38
, B03C 3/68 Z
