特許

J-GLOBAL ID：201603001511633688

酸化物前駆体のパターン形成方法

発明者： 下田 達也 ,  廣瀬 大亮 ,  永原 幸児 ,  芳本 祐樹
出願人/特許権者： 国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学
代理人 (1件)： 海野 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-051501
公開番号（公開出願番号）：特開2016-170361
出願日： 2015年03月14日
公開日（公表日）： 2016年09月23日
要約：

【課題】 フォトレジスト及びドライエッチングを用いない酸化物前駆体のパターン形成方法を提供する。【解決手段】 本発明の酸化物前駆体のパターン形成方法は、紫外線(UV)を酸化物前駆体に照射し、酸化物前駆体の溶剤に対する溶解性を変化させるUV照射工程と、UV照射した前記酸化物前駆体を溶剤に浸漬し、非UV照射部を溶解させる溶剤浸漬工程を含むことを特徴とする。溶解性が異なる部分をパターン状に作製し、その後、溶剤に浸漬してUVが照射されない部分を溶解除去して、酸化物のパターンを得るという方法を発明した。本発明では酸化物前駆体にUVを部分的に照射し、溶剤に浸漬することによって、フォトレジスト及び、ドライエッチングを用いないパターニングを行うことができる。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

紫外線(UV)を酸化物前駆体に照射し、酸化物前駆体の溶剤に対する溶解性を変化させるUV照射工程と、UV照射した前記酸化物前駆体を溶剤に浸漬し、非UV照射部を溶解させる溶剤浸漬工程を含むことを特徴とする酸化物前駆体のパターン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 7/004 ,  G03F 7/20 ,  H05K 3/06

FI (4件)：

G03F7/004 ,  G03F7/20 502 ,  G03F7/20 521 ,  H05K3/06 A

Fターム (25件)：

2H125AB03 ,  2H125CA11 ,  2H125CB02 ,  2H125CC01 ,  2H125EA22P ,  2H125FA05 ,  2H197AA15 ,  2H197CA03 ,  2H197CA06 ,  2H197HA03 ,  2H225AB03 ,  2H225CA11 ,  2H225CB02 ,  2H225CC01 ,  2H225CD05 ,  2H225EA22P ,  5E339BC05 ,  5E339BD03 ,  5E339BD07 ,  5E339BD14 ,  5E339BE05 ,  5E339BE11 ,  5E339DD04 ,  5E339GG02 ,  5E339GG10