特許
J-GLOBAL ID:201603001714034100

エーテル化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 特許業務法人栄光特許事務所 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-026444
公開番号(公開出願番号):特開2013-163650
特許番号:特許第5965659号
出願日: 2012年02月09日
公開日(公表日): 2013年08月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記一般式(2)で表されるカルボニル化合物と、下記一般式(3)で表されるジアルコキシ化合物とを、水素化触媒及び酸性物質の存在下にて、水素と反応させて水素化することにより、下記一般式(1)で表されるエーテル化合物を1工程で製造する方法。 [式(2)中、R1は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基である。 R2は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基である。 さらに、R1とR2とが結合して環を形成していてもよい。] [式(3)中、R3は、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基(但し、水素添加で脱離される基は除く)である。 R4は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、又は、置換基を有していてもよいアラルキル基である。 R5は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜20のアルキル基、置換基を有していてもよい3〜8員環の脂環式基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよい複素環基、置換基を有していてもよいアラルキル基、又は、-OR3で表される基である。 但し、R4とR5が共に水素原子である場合を除く。さらに、R4とR5とが結合して環を形成していてもよい。] [式(1)中、R1〜R3の定義は、前記と同義である。]
IPC (7件):
C07C 41/01 ( 200 6.01) ,  C07C 43/23 ( 200 6.01) ,  C07C 43/164 ( 200 6.01) ,  C07C 43/184 ( 200 6.01) ,  C07C 43/178 ( 200 6.01) ,  C07C 43/18 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)
FI (7件):
C07C 41/01 ,  C07C 43/23 A ,  C07C 43/164 ,  C07C 43/184 ,  C07C 43/178 A ,  C07C 43/18 A ,  C07B 61/00 300
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献:
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