特許
J-GLOBAL ID:201603001740036987
選択的接触還元触媒の健全性を監視するシステムおよび方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
荒川 聡志
, 小倉 博
, 黒川 俊久
, 田中 拓人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-053243
公開番号(公開出願番号):特開2016-183672
出願日: 2016年03月17日
公開日(公表日): 2016年10月20日
要約:
【課題】選択的接触還元触媒の健全性を監視するシステムおよび方法を提供する。【解決手段】排気後処理システム10は、選択的接触還元(SCR)触媒アセンブリ14のNH3蓄積状態を監視するようにプログラム設定されたコントローラ24を備える。コントローラは、SCR触媒の入口の上流と出口の下流との両方の流体におけるNH3および/またはNOX濃度を表す信号を受信し、SCR触媒内に配設された少なくとも1つのRFプローブ38からSCR触媒の測定NH3蓄積量を表す信号を受信し、モデルを利用してSCR触媒の上流および下流の両方の流体におけるNH3および/またはNOX濃度に少なくとも基づいてSCR触媒の推定NH3蓄積量を生成し、推定NH3蓄積量と測定NH3蓄積量を比較し、推定NH3蓄積量と測定NH3蓄積量の比較に少なくとも基づいてSCR触媒のための制御動作を出力するようにプログラム設定されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
燃焼エンジン(12)からの放出物を処理するように構成された排気後処理システム(10)であって、
入口および出口を有し、前記燃焼エンジン(12)から流体(22)を受け取るように構成された選択的接触還元(SCR)触媒アセンブリ(14)、
前記SCR触媒アセンブリ(14)の前記入口の上流に配設された第1のセンサ(34、35)、
前記SCR触媒アセンブリ(14)の前記出口の下流に配設された第2のセンサ(36、37)、ならびに
前記SCR触媒アセンブリ(14)内に配設されるとともに前記SCR触媒アセンブリのNH3蓄積量を測定するように構成された少なくとも1つの高周波(RF)プローブ(38)
を備えた排気後処理システム(10)と、
前記排気後処理システム(10)に通信可能に結合されたコントローラ(24)と
を備えたシステムであって、
前記コントローラ(24)は、前記第1のセンサ(34、35)から前記SCR触媒アセンブリ(14)の上流の前記流体(22)におけるNH3濃度またはNOX濃度を表す第1の信号を受信し、前記第2のセンサ(36、37)から前記SCR触媒アセンブリ(14)の下流の前記流体(22)におけるNH3濃度またはNOX濃度を表す第2の信号を受信し、前記少なくとも1つのRFプローブ(38)から前記SCR触媒アセンブリ(14)の前記測定NH3蓄積量(60)を表す第3の信号を受信し、モデル(52)を利用して前記SCR触媒アセンブリ(14)の上流の前記流体(22)における前記NH3濃度または前記NOX濃度および前記SCR触媒アセンブリ(14)の下流の前記流体(22)における前記NH3濃度または前記NOX濃度に少なくとも基づいて前記SCR触媒アセンブリ(14)の推定NH3蓄積量(54)を生成し、前記推定NH3蓄積量(54)と前記測定NH3蓄積量(60)を比較し、前記推定NH3蓄積量(54)と前記測定NH3蓄積量(60)の前記比較に少なくとも基づいて前記排気後処理システム(10)のための制御動作を出力するように構成されている、システム。
IPC (4件):
F01N 3/08
, F01N 3/00
, F01N 3/18
, F01N 11/00
FI (5件):
F01N3/08 H
, F01N3/00 F
, F01N3/18 C
, F01N3/08 Z
, F01N11/00
Fターム (25件):
3G091AA06
, 3G091AA17
, 3G091AA18
, 3G091AA19
, 3G091AA20
, 3G091AB02
, 3G091AB05
, 3G091AB15
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA34
, 3G091CA17
, 3G091DC07
, 3G091EA06
, 3G091EA14
, 3G091EA16
, 3G091EA17
, 3G091EA32
, 3G091EA33
, 3G091HA08
, 3G091HA36
, 3G091HA37
, 3G091HA39
, 3G091HA42
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