特許
J-GLOBAL ID:201603001958413898

ウェハの製造方法及びウェハ処理システム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 龍華国際特許業務法人
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-092823
公開番号(公開出願番号):特開2016-165758
出願日: 2016年05月02日
公開日(公表日): 2016年09月15日
要約:
【課題】システム経費を抑制し、かつ高処理能力の太陽電池アブレーションシステムの提供。【解決手段】太陽電池アブレーションシステム100を用いて太陽電池を形成する。アブレーションシステムは、単一のレーザ源102と複数のレーザスキャナ104とを備える。レーザスキャナは、マスタレーザスキャナを含み、残りのレーザスキャナは、このマスタレーザスキャナに追従する。レーザ源からのレーザビームは、複数のレーザビームに分割され、これらのレーザビームが、レーザスキャナを用いて対応するウェハ上に1つ以上のパターンで走査される。レーザ源からの同一のまたは異なる出力レベルを用いてウェハ上でレーザビームを走査させ得る。【選択図】図1
請求項(抜粋):
太陽電池の製造方法であって、 単一のレーザ源からレーザビームを生成する工程と、 前記レーザビームを第1のレーザビーム経路と第2のレーザビーム経路とに沿って分割する工程と、 第1の走査工程において、前記第1のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、第1のパターンに従って、第1のステーションにある第1のウェハ上を走査させる工程と、 前記第1のウェハを前記第1のステーションから第2のステーションへ移動させ、その後、第2のウェハを前記第1のステーションへと移動させる工程と、 前記第1の走査工程の後であって、前記第1のウェハ及び前記第2のウェハを移動させた後の第2の走査工程において、前記第2のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第1のパターンの鏡像である第2のパターンに従って、前記第2のステーションにある前記第1のウェハ上を走査させる工程と、 前記第1のレーザビーム経路に沿って前記レーザビームを導き、前記第1のパターンに従って、前記第2のウェハ上を走査させる工程と、 を備え、 前記第1のウェハ上の走査及び前記第2のウェハ上の走査が実質的に同時に実行される、太陽電池の製造方法。
IPC (6件):
B23K 26/067 ,  H01L 31/022 ,  H01L 31/068 ,  B23K 26/10 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/386
FI (6件):
B23K26/067 ,  H01L31/04 260 ,  H01L31/06 300 ,  B23K26/10 ,  B23K26/00 N ,  B23K26/386
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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