特許

J-GLOBAL ID：201603002013267174

透明導電膜構造、及び透明導電膜構造の形成方法

発明者： 岡本 稔 ,  松木 浩志 ,  田中 斎仁 ,  大竹 富明
出願人/特許権者： 株式会社クラレ
代理人 (3件)： 前島 大吾 ,  宇高 克己 ,  薄葉 健司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-141528
公開番号（公開出願番号）：特開2016-018715
出願日： 2014年07月09日
公開日（公表日）： 2016年02月01日
要約：

【課題】導電膜の視認性改善の技術を提供することである。【解決手段】透明導電部領域Aと透明導電部領域Bと透明絶縁部領域Cとを具備する透明導電膜構造であって、前記透明導電部領域Bは前記透明導電部領域Aの側部に設けられてなり、前記透明絶縁部領域Cは前記透明導電部領域Aの側部に設けられてなり、前記透明導電部領域A,Bには、透明導電性材料が存在しており、前記透明絶縁部領域Cは、前記透明絶縁部領域Cに変化する前の透明導電部領域のマトリックスが、紫外線照射によって、劣化、又は溶媒に溶解する官能基が結合し、洗浄処理によって導電性材料が失われてなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

透明導電部領域Aと透明導電部領域Bと透明絶縁部領域Cとを具備する透明導電膜構造であって、 前記透明導電部領域Bは前記透明導電部領域Aの側部に設けられてなり、 前記透明絶縁部領域Cは前記透明導電部領域Aの側部に設けられてなり、 前記透明導電部領域A,Bには、透明導電性材料が存在しており、 前記透明絶縁部領域Cは、前記透明絶縁部領域Cに変化する前の透明導電部領域のマトリックスが、紫外線照射によって、劣化、又は溶媒に溶解する官能基が結合し、洗浄処理によって導電性材料が失われてなる ことを特徴とする透明導電膜構造。

IPC (4件)：

H01B 5/14 ,  H01B 13/00 ,  C01B 31/02 ,  G06F 3/041

FI (5件)：

H01B5/14 A ,  H01B13/00 503D ,  H01B13/00 503B ,  C01B31/02 101F ,  G06F3/041 490

Fターム (17件)：

4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD22 ,  4G146CB10 ,  4G146CB12 ,  4G146CB16 ,  4G146CB17 ,  4G146CB23 ,  4G146CB35 ,  4G146CB37 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB04 ,  5G307FC10 ,  5G323BA05 ,  5G323BB02 ,  5G323CA05