特許
J-GLOBAL ID：201603002087943902
IGZO焼結体、及びスパッタリングターゲット並びに酸化物膜
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-168553
公開番号（公開出願番号）：特開2014-024738
特許番号：特許第5998712号
出願日： 2012年07月30日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 In、Ga、及びZnを含有する酸化物焼結体であって、InGaZnO4で表されるホモロガス結晶構造のみを有し、ジルコニウムを重量比で20ppm以上100ppm未満含有し、相対密度が95%以上であり、かつ抗折強度が100MPa以上であることを特徴とする焼結体。
IPC (3件)：
C04B 35/00 ( 200 6.01)
, C23C 14/34 ( 200 6.01)
, H01L 21/363 ( 200 6.01)
C04B 35/00 J
, C23C 14/34 A
, H01L 21/363
