特許
J-GLOBAL ID：201603002180611154
混合物及び重合性化合物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
杉村 憲司
, 寺嶋 勇太
, 大石 治仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-526367
特許番号：特許第6020772号
出願日： 2016年03月30日
要約：
【要約】 本発明は、化合物(I)と重合性化合物(II)を含有する混合物であって、前記化合物(I)の含有量が、混合物全体の50モル%以上で、かつ、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸の含有量が5モル%未満である混合物;水非混和性有機溶媒中、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドと化合物(IV)とを、塩基存在下に反応させる工程と、得られた反応液を、弱酸性の緩衝溶液にて洗浄する工程を有する、前記混合物の製造方法等である。本発明によれば、実用的な低い融点を有し、汎用溶媒に対する溶解性に優れ、低コストで製造可能で、かつ、広い波長域において一様の偏光変換が可能な光学フィルムを得ることができる重合性化合物を、安価に製造するために有用な混合物、及びその混合物の製造方法が提供される(式中、Aは、水素原子、メチル基又は塩素原子を表し、nは1〜20の整数を表す。)。
請求項（抜粋）：
【請求項1】 有機溶媒中、式:Q-OH(式中、Qは置換基を有していてもよい有機基を表す。)で示されるヒドロキシ化合物と、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸とを反応させることにより、式(IB)
(式中、Qは前記と同じ意味を表す。)で示されるモノエステル化合物、及び、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライド又は1,4-シクロヘキサンジカルボン酸を含む反応溶液を得た後、得られた反応溶液をpHが5.0〜6.0の緩衝溶液にて洗浄することにより、前記反応溶液から、1,4-シクロヘキサンジカルボン酸、あるいは1,4-シクロヘキサンジカルボン酸ジクロライドを除去する方法。
IPC (2件)：
C07C 69/757 ( 200 6.01)
, C07C 67/08 ( 200 6.01)
C07C 69/757 A
, C07C 67/08
