特許
J-GLOBAL ID：201603002312132250
プラズマ処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 和憲
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-531421
特許番号：特許第5996654号
出願日： 2012年08月22日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 被処理物を処理室内に収容し、真空にした前記処理室内に導入したプロセスガスからプラズマを発生させ、前記プラズマによって前記被処理物の表面に処理を行うプラズマ処理装置において、
一対の側面の間に前記側面と直交する方向で、複数の前記被処理物を間隔あけて積層した状態に保持し、且つ積層された前記被処理物の間の各前記側面の部分を露出する側面開口を有し、前記処理室内に載置されるホルダーと、
前記ホルダーが前記処理室内に載置された状態で、前記ホルダーの一方の前記側面開口に対向して配されるガス導入部であって、前記側面開口に向けて配される複数の導入口を有し、前記導入口からプロセスガスを前記側面開口に向けて放出するガス導入部と、
前記ホルダーが前記処理室内に載置された状態で、前記ホルダーを挟んで前記ガス導入部とは反対側の前記処理室の領域に配され、前記処理室内から前記プラズマを含むプロセスガスを排気する排気口と、
前記プラズマを発生させる高周波電圧を出力する電源と、
前記電源からの高周波電圧が印加される円柱形状の第1電極及び接地される円柱形状の第2電極を有し、前記第1電極及び前記第2電極は、前記ホルダーと前記導入口との間で互いに略平行状態で離間し、且つ前記プロセスガスの放出方向と直交する方向に並べられる1列以上の電極列を有する電極ユニットと、
前記ホルダーの一対の前記側面及び前記処理室への載置面を除く周囲で前記処理室との間に配され、前記処理室を前記導入口側の導入口側空間と前記排気口側の排気口側空間に分けて、前記ホルダーの周囲を通り前記導入口から前記排気口への前記プラズマの流れを抑制する流路制御部材と
を備えるプラズマ処理装置。
IPC (6件)：
H05H 1/46 ( 200 6.01)
, H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, C23F 4/00 ( 200 6.01)
, C23G 5/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/304 ( 200 6.01)
, H05K 3/26 ( 200 6.01)
H05H 1/46 M
, H01L 21/302 102
, C23F 4/00 A
, C23G 5/00
, H01L 21/304 645 C
, H05K 3/26 F
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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