特許
J-GLOBAL ID:201603002345325542
筆記補助線投影装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
木下 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-015694
公開番号(公開出願番号):特開2016-168834
出願日: 2016年01月29日
公開日(公表日): 2016年09月23日
要約:
【課題】筆記補助線投影装置において、用紙上の筆記領域を広く確保しながら用紙を正確に配置することができ、また、装置にかかるコストを低く抑える。【解決手段】机上において筆記対象と離れた状態に載置され、レーザ光線を前記筆記対象に向けて照射する出射口が所定の高さ位置に設けられたケーシング4と、前記ケーシング内に設けられ、レーザ光を出射する光出射部2と、前記光出射部から出射されたレーザ光が入射されるとともに、入射されたレーザ光を筆記補助線用のレーザ光線に変換する回析光学素子10とを備え、前記回析光学素子により変換されたレーザ光は、前記ケーシングの出射口から照射され、前記出射口から前記筆記対象に対して照射される筆記補助線用レーザ光の光軸は、筆記対象に対して鋭角となるように出射され、前記机上に投影される筆記補助線用レーザ光は、前記筆記対象を机上に載置する位置を指示するガイド線のパターンGを含む。【選択図】図1
請求項(抜粋):
机上に載置されたシート状の筆記対象に対し筆記補助線を投影する筆記補助線投影装置であって、
前記机上において前記筆記対象と離れた状態に載置され、レーザ光線を前記筆記対象に向けて照射する出射口が所定の高さ位置に設けられたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、レーザ光を出射する光出射部と、
前記ケーシング内に設けられ、前記光出射部から出射されたレーザ光が入射されるとともに、入射されたレーザ光を筆記補助線用のレーザ光線に変換する回析光学素子とを備え、
前記回析光学素子により変換されたレーザ光は、前記ケーシングの出射口から照射され、
前記出射口から前記筆記対象に対して照射される筆記補助線用レーザ光の光軸は、筆記対象に対して鋭角となるように出射され、
前記机上に投影される筆記補助線用レーザ光は、前記筆記対象を机上に載置する位置を指示するガイド線のパターンを含むことを特徴とする筆記補助線投影装置。
IPC (3件):
B43L 13/00
, G03B 21/00
, G02B 5/18
FI (3件):
B43L13/00 N
, G03B21/00 Z
, G02B5/18
Fターム (32件):
2H249AA03
, 2H249AA13
, 2H249AA55
, 2H249AA64
, 2H249AA65
, 2K203FA20
, 2K203FA44
, 2K203FA73
, 2K203FA82
, 2K203FB04
, 2K203GA25
, 2K203GA36
, 2K203GA40
, 2K203GA46
, 2K203GA57
, 2K203GA59
, 2K203GC12
, 2K203HA74
, 2K203HA95
, 2K203HB08
, 2K203HB09
, 2K203KA03
, 2K203KA04
, 2K203KA07
, 2K203KA33
, 2K203KA38
, 2K203KA72
, 2K203KA73
, 2K203KA78
, 2K203MA21
, 2K203MA32
, 2K203MA35
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