特許

J-GLOBAL ID：201603002587874710

インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法

発明者： 高倉 伸 ,  山本 健司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-143652
公開番号（公開出願番号）：特開2016-021440
出願日： 2014年07月11日
公開日（公表日）： 2016年02月04日
要約：

【課題】モールドと基板との相対位置を変更させるときの負荷を低減させるために有利な技術を提供する。【解決手段】パターンが形成されたモールドを用いて基板の目標領域上のインプリント材を成形するインプリント装置は、前記モールドと前記基板との相対位置を変更する変更部と、前記モールドと前記インプリント材とが接触した後、前記モールドと前記基板との間隔を狭めながら、前記基板の面に平行な面方向における前記モールドと前記目標領域との位置合わせを徐々に行うように前記変更部を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記間隔の変化に対する前記面方向への前記相対位置の変化の割合が前記間隔が狭くなるにつれて大きくなるように前記位置合わせを行う。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたモールドを用いて基板の目標領域上のインプリント材を成形するインプリント装置であって、 前記モールドと前記基板との相対位置を変更する変更部と、 前記モールドと前記インプリント材とが接触した後、前記モールドと前記基板との間隔を狭めながら、前記基板の面に平行な面方向における前記モールドと前記目標領域との位置合わせを徐々に行うように前記変更部を制御する制御部と、 を含み、 前記制御部は、前記間隔の変化に対する前記面方向への前記相対位置の変化の割合が前記間隔が狭くなるにつれて大きくなるように前記位置合わせを行う、ことを特徴とするインプリント装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z ,  H01L21/30 502M

Fターム (13件)：

4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AP06 ,  4F209AQ01 ,  4F209AR07 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PN13 ,  5F146AA31 ,  5F146EB01 ,  5F146EB02 ,  5F146ED01