特許
J-GLOBAL ID:201603002641952048

塗布装置および液受け洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-212638
公開番号(公開出願番号):特開2014-065001
特許番号:特許第6000782号
出願日: 2012年09月26日
公開日(公表日): 2014年04月17日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、 前記基板の保持領域の上方の空間を移動可能であって、前記塗布液を下方に液柱状態で吐出する吐出口を有するノズルと、 吸引経路に接続された内部空間を有し、かつ、前記内部空間の上面は前記内部空間の上開口を覆う多孔性の面状体の上面によって規定されるとともに、前記ノズルが前記基板の存在領域外にあるときに前記ノズルから吐出された前記塗布液を、上方から前記内部空間に受ける液受け部と、 前記液受け部の近傍に前記液受け部と一体化されて配置されるとともに、所定の洗浄液を前記面状体より上方に放出可能な開口を有し、前記洗浄液によって前記ノズルの前記吐出口の洗浄処理を前記面状体より上方にて行うノズル洗浄装置と、 を備え、 前記吸引経路を通じた吸引によって前記液受け部の前記内部空間が負圧状態となることにより前記液受け部の近傍空間に発生する気流のうち、下向きの成分を有する下降気流が発生する空間領域である下降気流領域内において、前記ノズル洗浄装置の前記開口が、前記液受け部に対して相対的に固定配置されることを特徴とする塗布装置。
IPC (3件):
B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  B05C 5/00 ( 200 6.01) ,  B05B 15/02 ( 200 6.01)
FI (3件):
B05C 11/10 ,  B05C 5/00 101 ,  B05B 15/02
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-035699   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭63-123457
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-049079   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
審査官引用 (3件)
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-035699   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開昭63-123457
  • 塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2005-049079   出願人:大日本スクリーン製造株式会社

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