特許
J-GLOBAL ID：201603003000243132

含フッ素組成物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法及びトランジスタの製造方法

発明者：
山口 和夫

山口 和夫 について

, 
川上 雄介

川上 雄介 について


出願人/特許権者：
学校法人神奈川大学

学校法人神奈川大学 について

, 
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-027241
公開番号（公開出願番号）：特開2016-157111
出願日： 2016年02月16日
公開日（公表日）： 2016年09月01日
要約：
【課題】含フッ素組成物、パターン形成用基板、光分解性カップリング剤、パターン形成方法、トランジスタの製造方法の提供。【解決手段】下記一般式(1)で表される含フッ素化合物と、フッ素系溶剤と、を含有する含フッ素組成物。[一般式(1)中、Xはハロゲン原子又はアルコキシ基を表し、R1は水素原子又は炭素数1〜10の直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基を表し、Rf1、Rf2はそれぞれ独立にフッ素化アルコキシ基であって、nは0以上の整数を表す。][化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表される含フッ素化合物と、フッ素系溶剤と、を含有する含フッ素組成物。
IPC (10件)：
G03F 7/004 ,  C23C 18/18 ,  C07F 7/18 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H05K 3/18 ,  G03F 7/075 ,  G03F 7/40
FI (13件)：
G03F7/004 531 ,  C23C18/18 ,  C07F7/18 L ,  H01L21/28 A ,  H01L21/288 E ,  H01L21/288 Z ,  H01L29/78 627C ,  H01L29/78 616K ,  H01L29/78 617J ,  H05K3/18 A ,  H05K3/18 B ,  G03F7/075 501 ,  G03F7/40
Fターム (94件)：
2H196AA27 ,  2H196BA20 ,  2H196EA02 ,  2H196GA03 ,  2H196HA27 ,  2H196JA04 ,  2H196LA31 ,  2H225AN10P ,  2H225AN50P ,  2H225AN61P ,  2H225BA05P ,  2H225CA11 ,  2H225CB06 ,  2H225CC07 ,  2H225CC28 ,  2H225CD05 ,  2H225CD20 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ45 ,  4H049VR21 ,  4H049VR43 ,  4H049VU24 ,  4H049VW02 ,  4H049VW11 ,  4K022AA02 ,  4K022AA03 ,  4K022AA05 ,  4K022AA13 ,  4K022AA41 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022BA16 ,  4K022BA35 ,  4K022CA04 ,  4K022CA06 ,  4K022CA08 ,  4K022CA12 ,  4K022CA22 ,  4K022DA01 ,  4M104AA09 ,  4M104AA10 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104DD22 ,  4M104DD51 ,  4M104DD53 ,  4M104GG08 ,  4M104GG14 ,  4M104HH14 ,  5E343AA12 ,  5E343AA18 ,  5E343AA19 ,  5E343AA33 ,  5E343BB24 ,  5E343BB44 ,  5E343BB71 ,  5E343CC72 ,  5E343CC73 ,  5E343DD12 ,  5E343DD33 ,  5E343ER12 ,  5E343ER13 ,  5E343ER14 ,  5E343ER18 ,  5E343GG03 ,  5E343GG08 ,  5F110CC01 ,  5F110CC03 ,  5F110CC05 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD05 ,  5F110EE02 ,  5F110EE06 ,  5F110EE14 ,  5F110EE42 ,  5F110EE47 ,  5F110FF01 ,  5F110FF27 ,  5F110GG05 ,  5F110GG42 ,  5F110HK02 ,  5F110HK06 ,  5F110HK21 ,  5F110HK32 ,  5F110HK41 ,  5F110QQ01
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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