特許
J-GLOBAL ID：201603003172225152
マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
池上 徹真
, 須藤 章
, 松山 允之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-065388
公開番号（公開出願番号）：特開2013-197469
特許番号：特許第6014342号
出願日： 2012年03月22日
公開日（公表日）： 2013年09月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 試料を載置する、連続移動可能なステージと、
荷電粒子ビームを放出する放出部と、
複数の開口部を有し、前記複数の開口部全体が含まれる領域に前記荷電粒子ビームの照射を受け、前記複数の開口部を前記荷電粒子ビームの一部がそれぞれ通過することにより、マルチビームを形成するアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数の第1のブランカーと、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを前記複数の第1のブランカーの偏向方向と直交する方向に偏向する複数の第2のブランカーと、
前記複数の第1のブランカーと前記複数の第2のブランカーとのうち少なくとも一方によってビームOFFの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽するブランキングアパーチャ部材と、
前記アパーチャ部材の複数の開口部を通過したマルチビームのうち、不良ビームを検出する検出処理部と、
を備え、
前記複数の第2のブランカーは、前記マルチビームのうち予め決められたビーム群で構成されるグループ毎に共通の電極を用いて偏向し、
前記複数の第2のブランカーは、前記不良ビームを含むグループのビーム群用の前記共通の電極を用いて、前記マルチビームのうちの一部となる、前記不良ビームを含む前記グループのビーム群を一括して偏向することを特徴とするマルチ荷電粒子ビーム描画装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, H01J 37/305 ( 200 6.01)
H01L 21/30 541 W
, H01L 21/30 541 B
, H01J 37/305 B
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (8件)
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