電極及びプラズマ処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：萩原康司 , 金本哲男 , 亀谷美明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-028429
公開番号（公開出願番号）：特開2012-186457
特許番号：特許第5982129号
出願日： 2012年02月13日
公開日（公表日）： 2012年09月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】平行平板型のプラズマ処理装置用の電極であって、所望の誘電体から形成された基材と、前記基材の表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の処理空間側の表面の外周部全体を覆うように形成された導電体層と、を備え、前記基材の前記処理空間側の表面における前記外周部の内側領域は、少なくとも2つ以上の同心円状の領域に分かれ、前記導電体層は、当該2つ以上の領域の中心部側に向けて徐々に疎になるように疎密のパターンを有することを特徴とする電極。

IPC (3件)：