特許

J-GLOBAL ID：201603003850165645

荷電粒子照射システムおよび照射計画装置

発明者： 藤井 祐介 ,  藤本 林太郎 ,  梅澤 真澄 ,  松浦 妙子 ,  宮本 直樹 ,  清水 伸一 ,  寅松 千枝 ,  ▲高▼尾 聖心 ,  二本木 英明 ,  平田 雄一 ,  梅垣 菊男
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (3件)： 特許業務法人開知国際特許事務所 ,  春日 讓 ,  猪野木 雄一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-068047
公開番号（公開出願番号）：特開2013-198579
特許番号：特許第5976353号
出願日： 2012年03月23日
公開日（公表日）： 2013年10月03日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 荷電粒子ビームを生成して出射する加速器と、 前記荷電粒子ビームを走査する走査電磁石を有し、前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する照射装置と、 前記照射標的の位置を計測する標的監視装置と、 前記標的監視装置からの信号に基づき前記走査電磁石の励磁電流値を補正して前記荷電粒子ビームを照射標的に照射する追尾照射と、前記標的監視装置からの信号に基づき前記照射標的が予め定めた出射許可範囲内にあるとき荷電粒子ビームを照射するゲート照射とを行う制御装置とを備え、 前記制御装置は、前記標的監視装置によって計測した前記照射標的の位置が前記ゲート照射の出射許可範囲内にあるときに前記追尾照射を行うことを特徴とする荷電粒子照射システム。

IPC (1件)：

A61N 5/10 ( 200 6.01)

FI (3件)：

A61N 5/10 D ,  A61N 5/10 H ,  A61N 5/10 M