特許

J-GLOBAL ID：201603003909096340

インプラントデバイスおよびインプラントデバイス植え込み具

発明者： 多田 裕一 ,  毛利 直人
出願人/特許権者： テルモ株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 望稔 ,  三和 晴子 ,  伊東 秀明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-181277
公開番号（公開出願番号）：特開2016-056107
出願日： 2014年09月05日
公開日（公表日）： 2016年04月21日
要約：

【課題】高浸透圧場を形成して標的組織を確実に治療することができるインプラントデバイスおよびインプラントデバイス植え込み具を提供する。【解決手段】標的組織に対して高浸透圧場を形成する高浸透圧場形成剤2と、高浸透圧場形成剤2を覆う生体分解性のコーティング層4と、高浸透圧場形成剤2を覆うように高浸透圧場形成剤2とコーティング層4の間に配置され且つコーティング層4が局部的に消失して生体内の体液Fに接触したときに膨潤してコーティング層4を連鎖的に剥離する膨潤層3とを備えるインプラントデバイス。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

生体内の標的組織に植え込まれるインプラントデバイスであって、 前記標的組織に対して高浸透圧場を形成する高浸透圧場形成剤と、 前記高浸透圧場形成剤を覆う生体分解性のコーティング層と、 前記高浸透圧場形成剤を覆うように前記高浸透圧場形成剤と前記コーティング層の間に配置され且つ前記コーティング層が局部的に消失して生体内の体液に接触したときに膨潤して前記コーティング層を連鎖的に剥離する膨潤層と を備えたことを特徴とするインプラントデバイス。

IPC (6件)：

A61K 9/30 ,  A61B 17/00 ,  A61K 9/00 ,  A61K 47/34 ,  A61K 45/00 ,  A61K 47/36

FI (6件)：

A61K9/30 ,  A61B17/00 320 ,  A61K9/00 ,  A61K47/34 ,  A61K45/00 ,  A61K47/36

Fターム (14件)：

4C076AA51 ,  4C076AA94 ,  4C076AA96 ,  4C076BB32 ,  4C076CC27 ,  4C076EE24A ,  4C076FF27 ,  4C084AA17 ,  4C084MA67 ,  4C084NA10 ,  4C084NA12 ,  4C084ZB261 ,  4C084ZB262 ,  4C160MM53