特許
J-GLOBAL ID:201603004014633940
上塗りフォトレジストと共に使用するためのコーティング組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-000224
公開番号(公開出願番号):特開2012-150469
特許番号:特許第5986748号
出願日: 2012年01月04日
公開日(公表日): 2012年08月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 (a)1)1以上のパラバン酸部分並びに2)1以上のシアヌラート基および/もしくは1以上のウラシル基を含む樹脂をコーティング組成物が含む、基体上の前記コーティング組成物の層、並びに
(b)前記コーティング組成物層上のフォトレジスト層、
を含むコーティングされた基体。
IPC (2件):
G03F 7/11 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
FI (2件):
G03F 7/11 503
, H01L 21/30 574
引用特許:
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